Process SenseTM ИК-детектор момента завершения очистки технологической камеры
 |
Датчик момента завершения процесса Process Sense - это компактный и недорогой анализатор парциального давления, специально сконструированный для определения окончания очистки плазменной камеры, используемой как при производстве полупроводников, так и плазменных панелей. В основе Process SenseTM лежит явление поглощение газом излучения в ИК диапазоне, единственный метод измерений, применимый ко всем процессам плазменной очистки. Process Sense устанавливается в трубопровод низкого вакуума, не оказывая никакого влияния на само оборудование (для осаждения). Сигнал от Process Sense может быть использован как для определения степени завершенности очистки с течением времени, так и для обратной связи с прибором для подачи сигнала о завершении процесса. |
Возможности и преимущества
- Сниженная стоимость использования (короткое время отклика позволяет в реальном времени определять момент окончания очистки, типичное газосбережение от 5% до 20%, уменьшение разрушающего воздействия на камеру из-за избыточной очистки продлевает ей жизнь)
- Повышенная производительность (оптимизированное время очистки камеры снижает время на подготовку процесса осаждения (обычно на 2% - 4 %), снижение избыточной очистки уменьшает лишнюю генерацию частиц, улучшая качество продукции, постоянная калибровка не зависит от условий процесса)
- Простая интеграция (имеется в наличии модернизирующий набор для производства современных материалов методом CVD, установка в трубопровод низкого вакуума - отсутствует влияние на само оборудование для осаждения, не требуется перекалибровка)
Применения
Определение момента завершения очистки камеры применительно к производству современных материалов методом CVD
- Диоксиды кремния (USG, FSG, PSG, BSG, BPSG)
- Нитриды кремния
- Поликристаллический кремний
- Силан или тетраэтил ортосиликат
|
Сравнение циклов очистки камеры иллюстрирует чувствительность Process Sense к колебаниям в процессе очистки камеры
|
В отличие от оптических датчиков момента завершения процесса, Process Sense предоставляет количественную информацию. Калибровка остается постоянной в течение всего времени и не требует от пользователя проводить перекалибровку. Измеряя парциальное давление, Process Sense может осуществлять мониторинг концентрации газа, наблюдая за ним через два оптических смотровых отверстия (для согласованных процессов) в линии предварительного вакуума, поддерживаемой MKS. Электронные и оптические компоненты датчика никогда не вступают в контакт с газом и могут работать при давлениях от мТорр до атмосферного без каких-либо оптических модификаций. Так как все датчики откалиброваны одинаково, критерий сигнала момента окончания процесса одинаков для всех приборов и камер, и какие-либо перестановки или улучшения могут проходить без перекалибровки.
|
|
|
|
Сравнение циклов очистки камеры иллюстрирует способность Process Sense предсказать количество удаляемого вещества, тем самым не допуская ее избыточной очистки
|
Process Sense снижает стоимость, улучшает качество продукции и увеличивает объемы ее производства. Благодаря правильному определению момента окончания очистки камеры, количество NF3, используемого для очистки, снижается, обычно на 5 - 20 %. Схожие результаты были получены в случае очистки ПФУ, уменьшая объем этих выбросов, производимых предприятием. Снижение времени очистки камеры до необходимого уровня, уменьшает вероятность эрозии камеры (из-за избыточной очистки), и тем самым продлевает её жизнь. Кроме того, экономится время, затрачиваемое на подготовку процесса осаждения, что, в свою очередь, увеличивает производительность до 2 - 4%.
Данное усовершенствование процесса предлагается в виде модернизирующего набора для оборудования по производству современных материалов методом CVD (200 и 300 мм) и имеющего программное обеспечение Applied Materials версии 3.1 или выше.
|
Характеристики ИК-детектора Process SenseTM
|
Габаритные размеры
|
127 x 165 x 269 мм
|
|
Вес
|
3,18 кг
|
|
Время отклика
|
Непрерывный аналоговый отклик с 50 мс обновлением
|
|
Уровень сигнала
|
0 - 10 В
|
|
Точность калибровки
|
± 10%
|
|
Предел обнаружения
|
1 мТорр парциального давления SiF4
|
|
Колебания базовой линии
|
≤ 5 мВ в ходе обычной очистки
|
|
ИК источник
|
Карбид кремния
|
|
Метод анализа
|
Инфракрасный недиспергирующий с фильтром
|
|
Вакуумная кювета
|
Нержавеющая сталь
|
|
Вакуумное соединение
|
ISO-KF DN40
|
|
Оптический путь в вакуумной кювете
|
Пучок 85 мм длиной и 17.8 мм в диаметре
|
|
Окна вакуумной кюветы
|
Окна BaF2 диаметром 25.2 мм и толщиной 5.0 мм
|
|
ИК приемник
|
LiTaO3 с компенсацией температурных воздействий
|
|
Электропитание
|
+ 15 В (110мА), - 15 В (30мА), + 24 В (1А номинально, 2А исходно)
|
|
Аналоговый выходной сигнал
|
Заземленный относительно ± 15 В
|
|
Цифровые входные/ выходные сигналы
|
Изолированные ввод/вывод данных для операций с 24 В напряжения постоянного тока
|
|
