Объединяя лучших
Москва:
Санкт-Петербург:
Новосибирск:
Екатеринбург:
Нижний Новгород:
Челябинск:
Главная \ ВАКУУМНАЯ ТЕХНИКА \ Tegal Corporation \ Установки глубокого реактивно-ионного травления (DRIE)

Установки глубокого реактивно-ионного травления (DRIE)

Установки глубокого реактивно-ионного травления Tegal™ (DRIE)

Впервые установка для глубокого травления кремния с запатентованной технологией реактора с индуктивно-связанной плазмой (ICP), была выпущена в 1993 году.

Установки  Tegal обеспечивают глубокое травление с высокими темпами, удовлетворяя передовым требованиям в области глубокого плазменного травления.

Гамма установок Tegal обеспечивает глубокое плазменное травление для таких материалов, как кремний (Si), КНД-структуры (SOI), стекло-образные материалы. Установки глубокого плазменного травления могут быть сконфигурированы для различных задач, от научно-исследовательских, до крупных промышленных проектов.

Установка глубокого плазмохимического травления  Tegal 100 SE/DE™
 
Tegal 100™  представляет собой компактную, легкую в обслуживании, и экономически эффективную платформу для различных целей использования.  Tegal 100™ может быть сконфигурирована в различных модификациях с минимальным техническим вмешательством. Дизайн установки воплотил в себя лучшие достижения из 25-летнего опыта разработок плазменных процессов.

Технологическое превосходство было достигнуто благодаря продолжительному опыту в процессах «сухого» травления кремния. Установка  Tegal 100 SE™ обеспечивает глубокое травление с высокими темпами, удовлетворяя передовым требованиям производителей и разработчиков  микроэлектромеханических систем (МЭМС) в области глубокого плазменного травления.

Спецификация

 Tegal 100 SE™(для Кремния)

 Tegal 100 DE™(для диэлектриков)

Рабочая камера

ICP Source

Высокая плотность > 1011 ионов см3

Генератор
Рабочее давление

ВЧ генератор 3 кВт (13,56 МГц)  < 5*10-7 мбар

Держатель подложки

Температурные условия

Комнатная температура или
опционально криосистема

Комнатная температура

Размер подложки

100, 125, 150, 200 мм возможно 50 и 76 мм на держателе 100 мм

Генератор НЧ смещения

500 Вт / 40-460 кГц

-

Генератор ВЧ смещения

300 Вт / 13,56 МГц

-

Система захвата

Механическая или электростатическая

Загрузка

Система подачи

Вакуумная загрузка одной подложки. Защищенная ручная или автоматическая подача подложки.

Газовая система

До 14 газовых линий

Могут быть интегрированы в рабочую установку или внешний шкаф

Откачная система

Вакуумная система Adixen by Pfeiffer Vacuum

Роторно-пластинчатый насос 2063 + Гибридный турбонасос с магнитным подвесом ATH 1600 M

Опция: Безмасляный форвакуумный насос A100

Управление

ПК / PLC

интерфейс на базе Windows 2000

Контроль процесса

Опционально

Система лазерной интерферометрии

Характеристики

Рабочая установка

600 X 1650 X 2100

Электрический пульт

 600 X 800 X 2100

Общий вес

1000 кг

 

Москва:
Санкт-Петербург:
Адрес:
107023, г. Москва, ул. Электрозаводская, д.24