Объединяя лучших
Москва:
Санкт-Петербург:
Новосибирск:
Екатеринбург:
Нижний Новгород:
Челябинск:

Многоступенчатые насосы Рутса для жестких условий эксплуатации

Безмасляные технологические насосы серий A4 и ADH являются энергоэффективными и экономичными решениями для сложных процессов в полупроводниковой, лакокрасочной и солнечной промышленности.

Что такое жесткие процессы?
Жесткие процессы - это химические процессы, используемые, например, в полупроводниковой и лакокрасочной промышленности. Эти процессы являются жесткими, поскольку в первую очередь агрессивные и коррозионные среды используются и обрабатываются в вакууме. Эти среды предъявляют самые высокие требования к конструкции и качеству технологических систем. Типичными процессами для работы в тяжелых условиях являются травление, химическое осаждение из паровой фазы (CVD), осаждение из атомного слоя (ALD), а также химическое осаждение паров органических металлов (MOCVD).

Pfeiffer Vacuum ADH

Серия ADH была разработана специально для применений в сложных процессах солнечного, полупроводникового и светодиодного рынков, предлагая скорость откачки от 600 до 4500 м³/ч


Подробнее
Pfeiffer Vacuum A4H/A4X

Безмасляные насосы для полупроводниковой промышленности с максимальной скоростью откачки от 110 до 2 300 м³/ч


Подробнее

Выбор правильной версии для вашего приложения
Доступны две версии серии А4. Модели насосов A4H подходят для всех процессов, в которых присутствует неагрессивная химия. Для наиболее агрессивных применений используются модели A4X, в которых применяются коррозионностойкие материалы, что продлевает их срок службы и снижает стоимость владения. Насосы серии ADH – применяются для сложных процессов, требующих высоких скоростей откачки таких технологических газов как N2 и H2. Эти насосы могут обрабатывать большое количество побочных продуктов и обеспечивают высочайший уровень безопасности при работе с взрывоопасными газами, такими как водород и силан.

Правильное оборудование имеет решающее значение
Поскольку агрессивные и коррозийные химикаты используются в тяжелых производственных процессах, вакуумные насосы и компоненты должны быть устойчивы к коррозии. В применениях полупроводниковой и лакокрасочной промышленности часто наблюдается увеличение количества порошка, что может привести к накоплению в вакуумных насосах. Таким образом, необходимо убедиться, что используемые технологические насосы подходят для такого количества порошка. Для того, чтобы избежать конденсации внутри насосов, продувочный газ используется в сочетании со сложным управлением температурой.

Технологические насосы A4 от Pfeiffer Vacuum для работы в тяжелых условиях
В серии A4 компания Pfeiffer Vacuum предлагает насосные решения для самых сложных процессов в полупроводниковой и лакокрасочной промышленности. Серия основана на проверенной технологии безмасляных многоступенчатых насосов Рутс. Высокая устойчивость к частицам и сопротивление конденсации характеризует насосы серии А4. Компактная и модульная конструкция обеспечивает компактную интеграцию в действующие системы. Длинные интервалы обслуживания и низкое энергопотребление обеспечивают низкие эксплуатационные расходы.

Высокоэффективные безмасляные насосы серии ADH для новейших технологических процессов
Серия ADH была разработана специально для применений в сложных процессах солнечного, полупроводникового и светодиодного рынков, обеспечивая скорость откачки от 600 до 4500 м3 / ч. Насосы предлагают лучшую эффективность перекачки водорода для солнечных батарей (a-Si и μ-Si PECVD) и светодиодов (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…), а также высокую скорость откачки H2 для полупроводниковых применений (ALD, Epitaxy и EUV) при самых низких эксплуатационных расходах.