Системы мониторинга процессов - это инновационные приборы для мониторинга рабочих процессов на месте работы производственных установок, с которыми они полностью интегрированы. Системы представляют собой специализированные комплексы технических средств, в число которых входят анализаторы состава остаточных газов (АОГ), аналитическое оборудование и программные средства системы управления. Квадрупольные масс-спектрометры используются в различных сферах производства, в том числе для изготовления полупроводников, тонкопленочных микросхем (химическое осаждение из газовой фазы (CVD), травление, физическое осаждение из газовой фазы (PVD) и дегазация), фармацевтической лиофилизация и мониторинга чистоты объемных газов.
Базовый вакуумный анализатор остаточных газов.
• Диапазон измеряемых масс: Стандарт: 1-100 а.е.м.
Опционально: 1-200 а.е.м., 1-300 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 7,6*10-5 Торр (1*10-4 мбар)
• Мин. определяемая концентрация: Фарадей 2*10-11 Торр (2,7*10-11 мбар)
Масс-спектрометрические установки для процесса реактивного напыления и травления
• Диапазон измеряемых масс: Vision 2000-C: 1-300 а.е.м.
Vision 2000-E: 1-200 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 1*10-3 Торр на входе источника ионов (стандартно), более высокое давление опционально
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: <2*10-11 Торр (для общего давления <1*10-4 Торр на базовом входе)
• Мин. определяемая концентрация: < 200 ppb газа высокого давления для неинтерферирующих видод
Высокочувствительные масс-спектрометрические системы для процесса реактивного напыления и травления
• Диапазон измеряемых масс: 1-300 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 1*10-3 Торр на входе источника ионов (стандартно), более высокое давление опционально
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: <2*10-11 Торр (для общего давления <1*10-4 Торр на базовом входе)
• Мин. определяемая концентрация: <15 ppb газа высокого давления для неинтерферирующих видод
Анализатор остаточных газов процессов PVD
• Диапазон измеряемых масс: Стандартно: 1-100 а.е.м.
Опционально: 1-200 и 1-300 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 7.6*10-3 (1*10-2 мбар) на входе источника ионов (стандартно), более высокое давление опционально
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: <2*10-11 Торр (для общего давления <1*10-4 Торр на входе)
• Мин. определяемая концентрация: <100 ppb для всех распространенных газов, кроме <10 ppm для H2 (предел обнаружения следовых газов)
Высокочувствительный анализатор остаточных газов процессов PVD
• Диапазон измеряемых масс: Стандартно: 1-100 а.е.м.
Опционально: 1-200 и 1-300 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 7.6*10-3 (1*10-2 мбар) на входе источника ионов (стандартно), более высокое давление опционально
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: <2*10-11 Торр (для общего давления <1*10-4 Торр на входе)
• Мин. определяемая концентрация: <15 ppb (указано с аргоном или азотом для пиков без помех)
Система обнаружения фоторезиста для дегазации высокого давления
• Диапазон измеряемых масс: 1-200 а.е.м.
• Мин. определяемая концентрация: < 100 ppb для всех распространенных газов, за исключением <10 ppm для H2
Высокочувствительная система обнаружения фоторезиста
• Диапазон измеряемых масс: 1-200 а.е.м.
• Мин. определяемая концентрация: <15 ppb с аргоном или азотом
Анализатор остаточного газа высокого давления
• Диапазон измеряемых масс: 1-100 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 0,001 Торр (0,0013 мбар)
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: 8*10-11 Торр (1*10-11 мбар)
• Мин. определяемая концентрация: 5 ppm при 0,001 торр (0,0013 мбар)
Анализатор остаточного газа высокого давления 0,008 Торр
• Диапазон измеряемых масс: 1-100 а.е.м.
• Макс. рабочее давление: 0,008 Торр (0,001 мбар) - зависит от применения
• Мин. обнаруживаемое парциальное давление: 8*10-11 Торр (1*10-11 мбар)
• Мин. определяемая концентрация: 5 ppm при 0,001 торр (0,0013 мбар)